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      化學(xué)氣相沉積法：英文名稱(chēng)為Chemical Vapor Deposition，簡(jiǎn)稱(chēng)CVD法，是指將含碳元素的混合氣體置于一定條件下，氣體中的碳原子按金剛石的結(jié)構(gòu)在預(yù)先放置在生長(zhǎng)艙中的種晶上沉淀，不斷長(zhǎng)大后形成的等軸晶系晶質(zhì)體，簡(jiǎn)稱(chēng)為CVD培育鉆石。
 HPHT，全稱(chēng)為High Pressure High Temperature，也就是高溫高壓。高溫高壓法合成鉆石是指模擬天然金剛石的生長(zhǎng)環(huán)境，以石墨、金剛石粉或石墨-金剛石粉為碳源，在高溫高壓、金屬觸媒等生長(zhǎng)環(huán)境中形成的等軸晶系晶質(zhì)體，簡(jiǎn)稱(chēng)為HPHT合成鉆石，或HPHT培育鉆石。